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傳NVIDIA新一代Volta繪圖芯片 可能采7納米制程

此前外界傳出繪圖芯片(GPU)大廠NVIDIA新一代繪圖芯片架構(gòu)Volta，可能將采用臺(tái)積電16納米或10納米制程生產(chǎn)。外界預(yù)期NVIDIA可能會(huì)選擇以臺(tái)積電10納米工藝制造，不過根據(jù)近期NVIDIA的對(duì)外征才說明，似乎透露出NVIDIA可能打算直接跳過10納米，改以臺(tái)積電7納米制程生產(chǎn)Volta。

根據(jù)科技網(wǎng)站Motley Fool報(bào)導(dǎo)，日前NVIDIA在該公司官網(wǎng)上發(fā)布征才啟事，其中在征求缺陷分析工程師一職的職務(wù)說明中，一開始原先有寫到要征求有28納米、20納米、16納米、14納米及10納米制程缺陷分析經(jīng)驗(yàn)工程師的條件，由于其中有提到10納米，因此似乎暗示NVIDIA下一階段產(chǎn)品可能會(huì)采用10納米制程。

然而近期NVIDIA再度更新該公司求職條件及說明，雖然其中條件說明幾乎與前一次求才條件相差不多，但卻發(fā)現(xiàn)有一個(gè)說明有所變動(dòng)，即原先上述有提到10納米制程，如今卻改成7納米，且7納米是直接取代10納米被列在最新的征才條件上，意謂NVIDIA可能將不招募具10納米缺陷分析經(jīng)驗(yàn)的工程師。由此外媒分析NVIDIA顯然可能要直接跳過10納米，改以7納米制程生產(chǎn)Volta。

此前臺(tái)積電已曾表明其10納米制程的生命周期不長，主要將服務(wù)聯(lián)發(fā)科、蘋果(Apple)以及海思(HiSilicon)等行動(dòng)應(yīng)用處理器業(yè)者，臺(tái)積電10納米制程預(yù)期在2017年初導(dǎo)入生產(chǎn)，并將持續(xù)約1年成為臺(tái)積電的旗艦制程，此后約在2018年上半便將以7納米制程投入生產(chǎn)成為旗艦制程。

雖然此前外傳NVIDIA可能傾向以16納米制程生產(chǎn)Volta，而非10納米制程，但由于16納米制程至2019年時(shí)可能已有所過時(shí)，但臺(tái)積電10納米制程周期又不長，因此外界認(rèn)為NVIDIA若直接跨入7納米制程也不無道理。

如果NVIDIA計(jì)劃在2017年或2018年初的時(shí)間點(diǎn)打造Volta，由于這段時(shí)間正是臺(tái)積電10納米預(yù)期量產(chǎn)時(shí)程，因此在2017~2018年初打造Volta時(shí)，采用10納米制程便有其道理；如果Volta必須在2018年上半以后才能打造，外界認(rèn)為NVIDIA最好等待7納米制程上路，畢竟7納米制程可提供更佳的效能強(qiáng)化表現(xiàn)。